FERMI-RFPS-200是費勉儀器公司最新生產(chǎn)的一種高效射頻等離子體源，通過(guò)線(xiàn)圈式結構，能在真空腔體內激發(fā)產(chǎn)生等離子體，激勵氣體種類(lèi)包括但不限于H2、N2、O2、稀有氣體等，具有更好的穩定性以及更精確的操控性，廣泛應用于分子束外延系統（MBE）中氮化物生長(cháng)、氮原子注入和摻雜、氧化物生長(cháng)、氧原子的注入和摻雜、氫化物生長(cháng)以及氫原子表面清洗等。
| ● 高效穩定的氮化物、氧化物、氫化物生長(cháng) | ● 精確的操控性能，簡(jiǎn)單易用 | ● 可以根據需求更換引出端口 |
| ● 內有原子篩選孔,使離子體盡可能少的到達襯底 | ● 適用于MBE、真空解理鍍膜、氫原子襯底清洗等系統 |
| 類(lèi)型 | FERMI-RFPS-200 | |
| 真空兼容性 | CF100標準法蘭 | |
| 氣體負載 | N2，H2 | O2,H2 |
| 離子產(chǎn)生區材料 | PBN | 石英 |
| 冷卻方式 | 水冷 | |
| 進(jìn)氣裝置 | VCR1/4接頭 | |
| 真空工作距離 | 100-200mm | |
| 射頻匹配器 | 13.56MHz/500瓦 | |
| 水冷流速 | >1 L/min | |
| 手動(dòng)、自動(dòng)射頻匹配器 | 可選 | |
| 等離子體光譜檢測 | 可選 | |
原子氫襯底脫氧處理及外延測試：
MBE生長(cháng)用射頻離子源實(shí)際案例：真空解理鍍膜系統
 |  |
收到資料后，我們的銷(xiāo)售人員/產(chǎn)品工程師將與您聯(lián)系
部分產(chǎn)品可根據您的需求定制
您的資料將全程保密
EN
021-6525 3206
您當前位置：
全國服務(wù)熱線(xiàn)
詳詢(xún)產(chǎn)品信息
