RFPS-200M射頻等離子體源使用13.56MHz射頻電源驅動(dòng)，通過(guò)線(xiàn)圈式結構激發(fā)產(chǎn)生等離子體，具有更好的穩定性以及更精確的操控性。結構更加緊湊，體積、功率較小，適合科研使用。
| ● 高效穩定的氮化物、氧化物、氫化物生長(cháng) | ● 精確的操控性能，簡(jiǎn)單易用 | ● 內有原子篩選孔，使帶電粒子盡可能少地到達襯底 |
| ● 可以根據需求更換引出端口 | ● 適用于MBE外延、真空解理鍍膜、氫原子襯底清洗等系統 |
| 安裝法蘭 | CF40 |
| 工作氣壓 | 10-5 - 10-2mbar |
| 最大功率 | 300W |
| 匹配器 | 自動(dòng) |
| 裂解腔材質(zhì) | PBN/石英 |
| 真空內長(cháng)度 | 300mm |
| 工作距離 | 100 – 300 mm |
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